触媒反応生成高エネルギーH<sub>2</sub>Oを用いてガラス基板上に堆積したZnO薄膜のN<sub>2</sub>O添加初期成長膜の挿入効果

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第75回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 17p-PA5-5

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.2.0_3989

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 75

開催地: 北海道大学

開催日: 2014/09/17 - 2014/09/20

触媒反応生成高エネルギーH₂Oを用いてガラス基板上に堆積したZnO薄膜のN₂O添加初期成長膜の挿入効果

*大橋優樹, 叶内慎吾, 山口直也, 玉山泰宏, 安井寛治

著者情報

キーワード: 17p-PA5-5, 合同セッションＫワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス, ZnO, 触媒反応, N₂O添加初期成長膜

会議録・要旨集フリー

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 2014 公益社団法人応用物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

Top