GaとH<sub>2</sub>Oを原料とする大気圧化学気相堆積法によるβ-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜及びナノ構造の成長

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第62回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 13a-P18-16

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2015.1.0_3850

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 62

開催地: 東海大学

開催日: 2015/03/11 - 2015/03/14

GaとH₂Oを原料とする大気圧化学気相堆積法によるβ-Ga₂O₃薄膜及びナノ構造の成長

*寺迫智昭, 一ノ谷光, 宮田晃, 矢木正和

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キーワード: 13a-P18-16, 合同セッションＫワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス, 薄膜成長, 酸化ガリウム, 化学気相堆積法, ナノワイヤー

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