hcp構造を有するNi膜の成長と熱処理の影響

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第63回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 22a-P5-1

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.1.0_1458

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

hcp構造を有するNi膜の成長と熱処理の影響

*池之上卓己, 上野仁希, 小森祥央, 掛谷一弘, 三宅正男, 平藤哲司

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キーワード: 22a-P5-1, 薄膜・表面, 薄膜新材料, 金属薄膜など, ミストCVD法, hcp-Ni

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