プラズマ支援反応性スパッタリングを用いたアモルファスIGZO薄膜トランジスタの低温形成

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第63回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 22a-W611-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.1.0_1691

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 63

開催地: 東京工業大学

開催日: 2016/03/19 - 2016/03/22

プラズマ支援反応性スパッタリングを用いたアモルファスIGZO薄膜トランジスタの低温形成

節原裕一, 中田慶太郎, 佐竹義且, *竹中弘祐, 内田儀一郎, 江部明憲

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キーワード: 22a-W611-2, プラズマエレクトロニクス, プラズマ成膜・表面処理, CVD・PVD・スパッタリング, IGZO, スパッタリング

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