界面顕微光応答によるNi/n-SiCの界面反応の2次元評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第77回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 14p-P9-5

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.2.0_3241

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 77

開催地: 朱鷺メッセ

開催日: 2016/09/13 - 2016/09/16

界面顕微光応答によるNi/n-SiCの界面反応の2次元評価

*橋爪孝典, 畑裕介, 加藤正史, 塩島謙次

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キーワード: 14p-P9-5, 結晶工学, IV族系化合物（SiC）, 電極, 界面顕微光応答法, SiCショットキー接触, 熱劣化

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