確率論的モデルに基づくナノ空間中でのUV-NILレジストの硬化特性解析

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第64回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 15a-423-7

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2017.1.0_1667

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 64

開催地: パシフィコ横浜

開催日: 2017/03/14 - 2017/03/17

確率論的モデルに基づくナノ空間中でのUV-NILレジストの硬化特性解析

*香山真範, 白井正充, 川田博昭, 平井義彦, 安田雅昭

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キーワード: 15a-423-7, ビーム応用, 微細パターン・微細構造形成技術, 光ナノインプリント, 光インプリント, 硬化特性, 確率論的モデル

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