第66回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 10p-W241-2
会議情報
主催: 公益社団法人 応用物理学会
会議名: 応用物理学会春季学術講演会
回次: 66
開催地: 東京工業大学 大岡山キャンパス
開催日: 2019/03/09 - 2019/03/12
ヘテロ接合チャネルによるIn–Ga–Zn–O薄膜トランジスタの高移動度・高信頼性化
キーワード:
10p-W241-2,
シンポジウム,
金属酸化物による新技術の開拓Ⅰ～薄膜形成からデバイス創出に至るまで～,
薄膜トランジスタ,
In–Ga–Zn–O,
Heterojunction channel
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