ミストCVD法により成膜したGaO<sub>x</sub>膜のアニール効果(Ⅱ)

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第80回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 19a-PA4-7

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.2.0_3735

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 80

開催地: 北海道大学札幌キャンパス

開催日: 2019/09/18 - 2019/09/21

ミストCVD法により成膜したGaO_x膜のアニール効果(Ⅱ)

*松田紘明, 森英喜, 新船幸二, 吉田晴彦

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キーワード: 19a-PA4-7, 非晶質・微結晶, シリコン系太陽電池, パッシベーション技術, パッシベーション, ミストCVD, 太陽電池

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