Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/SiO<sub>2</sub>界面ダイポール層強度の温度依存性と各酸化物の密度の相関

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第67回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 15a-A305-8

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2020.1.0_2646

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 67

開催地: 上智大学四谷キャンパス

開催日: 2020/03/12 - 2020/03/15

Al₂O₃/SiO₂界面ダイポール層強度の温度依存性と各酸化物の密度の相関

*濱口高志, 喜多浩之

著者情報

キーワード: 15a-A305-8, 半導体, 絶縁膜技術, high-k膜, 界面ダイポール層

会議録・要旨集フリー

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 2020 公益社団法人応用物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

Top