応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第67回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 14a-B401-4
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 67

開催地: 上智大学 四谷キャンパス

開催日: 2020/03/12 - 2020/03/15

SiNキャップ層高温熱処理によりGaN表面付近に導入される電子トラップの深さ方向分布の熱処理時間依存性
*古田 悟夢, 堀田 昌宏, 田中 成明, 岡 徹, 須田 淳
著者情報
キーワード: 14a-B401-4, 半導体, 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術, 窒化物半導体各種デバイス，プロセス技術・評価, 高温熱処理, 深い準位, 窒化ガリウム
会議録・要旨集 フリー

詳細
PDFをダウンロード (364K)
メタデータをダウンロード RIS形式

(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)

BIB TEX形式

(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)

テキスト
メタデータのダウンロード方法
発行機関連絡先
記事の1ページ目
著者関連情報
© 2020 公益社団法人 応用物理学会
前の記事 次の記事
お気に入り & アラート

閲覧履歴
このページを共有する
feedback
 Top