分子線エピタキシー法による高品質ヨウ化銅薄膜の作製

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第81回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 10p-Z05-14

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2020.2.0_1005

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 81

開催地: オンライン開催

開催日: 2020/09/08 - 2020/09/11

分子線エピタキシー法による高品質ヨウ化銅薄膜の作製

*稲垣宗太朗, 中村優男, 相澤直矢, Peng Licong, Yu Xiuzhen, 十倉好紀, 川﨑雅司

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キーワード: 10p-Z05-14, 薄膜・表面, 薄膜新材料, 半導性・導電性薄膜, ワイドギャップ半導体, 薄膜作製, 結晶性

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