応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第68回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 19a-P02-8
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 68

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/03/16 - 2021/03/19

反応性プラズマプロセスを用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの低温形成(III)
*竹中 弘祐, 平山 裕之, 藤村 知輝, 林 祐仁, 内田 儀一郎, 江部 明憲, 節原 裕一
著者情報
キーワード: 19a-P02-8, プラズマエレクトロニクス, プラズマ成膜・エッチング・表面処理, CVD・PVD・スパッタリング, IGZO, 酸化物半導体
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