超高圧熱処理を施したMgイオン注入GaNのPL評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第68回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 18a-Z15-5

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_2411

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 68

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/03/16 - 2021/03/19

超高圧熱処理を施したMgイオン注入GaNのPL評価

*白石舞翔, 宮崎泰成, 和田竜垂, 渡邉健太, 大川峰司, 大森雅登

著者情報

キーワード: 18a-Z15-5, 半導体, 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術, 窒化物半導体各種デバイス，プロセス技術・評価, 窒化ガリウム, イオン注入, フォトルミネッセンス

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