MBEによるガラス基板上h-BN薄膜の膜厚評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第82回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 10p-N102-1

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.2.0_2897

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 82

開催地: ハイブリッド開催（名城大学＆オンライン）

開催日: 2021/09/10 - 2021/09/23

MBEによるガラス基板上h-BN薄膜の膜厚評価

*畠山直樹, 小豆畑敬, 中澤日出樹, 岡本浩, 廣木正伸, 熊倉一英, 小林康之

著者情報

キーワード: 10p-N102-1, 結晶工学, III-V族窒化物結晶, 成長（MBE, スパッタリング）, 窒化ホウ素, 分子線エピタキシー

会議録・要旨集フリー

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 2021 公益社団法人応用物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

Top