流体工学部門講演会講演論文集
Online ISSN : 2424-2896
セッションID: 106
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106 常圧パルスプラズマCVD装置における電離化特性と成膜プロセスの解析(O.S.1-2 プラズマ(1))(O.S.1 電子・イオン・分子の流れ)
加藤 征三, 古畑 勝行, 梶野 真一
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© 2001 一般社団法人 日本機械学会
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