OS0802 高純度アセチレンを用いた燃焼炎法によるダイヤモンド皮膜合成(OS08-01 薄膜・皮膜の特性評価とその膜構造1,OS08 薄膜・皮膜の特性評価とその膜構造(1))

抄録

CVD法の一種である燃焼炎法に着目し,大気中の高純度アセチレン-酸素の燃焼炎が安定した状態でダイヤモンド皮膜の合成を行い,良質でかつ接合強度の高いダイヤモンド皮膜の合成を考えた.しかし,高純度アセチレンを用いた場合,ダイヤモンドが合成しくいことがわかっている.そこで,ダイヤモンド合成促進成分として窒素に注目し,高純度アセチレン-酸素混合気体に窒素を流入し,窒素流量を変化させ合成を行った.この際のダイヤモンド皮膜合成の可能性ならびに皮膜のはく離に関する影響等について検討を行った.