抄録
我々はこれまで、シロイヌナズナの乾燥・塩・低温応答性の遺伝子の発現調節に関わる転写因子DREBについての解析を行い、さらにイネにおけるDREBのホモログを同定した。これらDREB遺伝子を導入したシロイヌナズナでは、多数のストレス誘導性遺伝子の転写産物の蓄積及びストレス耐性の向上を確認している。
さらに我々はDREB遺伝子を過剰発現した形質転換イネを作製した。これらの形質転換イネは乾燥・高塩・低温ストレス耐性が上昇していた。また、これら形質転換体中の遊離アミノ酸及び各種糖類を分析したところ、ストレスのない状態でも適合溶質であるプロリン及び各種糖類が上昇していた。アジレントの22kオリゴアレイ及びノーザン解析により、乾燥・高塩・低温ストレス誘導性のDREBのターゲット遺伝子を同定した。これらの結果より、DREB遺伝子の過剰発現は、イネにおいてもシロイヌナズナと同様に、複数のターゲット遺伝子の発現を誘導し、その結果適合溶質の上昇などの生理現象が起こり、ストレス耐性を上昇させたと考えられた。
しかし、このDREB遺伝子を過剰発現したイネは生長が遅れ、矮化するというシロイヌナズナと同様の現象が見られた。これらの生長の遅れを解決するため、ストレス誘導性遺伝子のプロモーターでDREB遺伝子の発現を制御した形質転換体を作製し、現在これら形質転換体のストレス耐性を検定している。
