放射線化学
Online ISSN : 2188-0115
ISSN-L : 0286-6722
とぴっくす: 半導体フォトカソードの産業技術への展開を目指した研究開発と事業化
西谷 智博
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ジャーナル オープンアクセス

2017 年 103 巻 p. 21-

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抄録
半導体フォトカソードは,素粒子実験用の電子源として四半世紀以上に渡り研究開発が進み,スピン偏極やパルス構造など多彩かつ高度な電子ビームの生成が実現可能となった.しかしながら,半導体フォトカソードでは機能性表面の劣化に伴う寿命問題を抱えているだけでなく,その電子銃装置もコンパクト化と低コスト化に課題を持つ.本研究開発では,GaN系半導体材料に着目することで半導体フォトカソードの高耐久化を実現し,その高耐久性が電子銃のコンパクト・低コスト化にも寄与することを明らかにした.同時に,電子ビーム源の事業化を目的とした研究開発型のスタートアップを起業することで,これらの研究開発の成果の最大化を推し進めている.
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