放射線化学の応用技術として，EUVリソグラフィ用レジスト材料が先端半導体デバイスの量産で使われようとしている．EUVレジストに関して重要な課題として残っているのは，レジストの高感度化によるEUVリソグラフィのコストの削減と，フォトンや化学物質濃度のショットノイズの影響でレジストの寸法がばらつくことの抑制である．本稿では，レジストの寸法ばらつきを含むリソグラフィ性能を維持しつつ感度を上げる手法として，光増感化学増幅型レジスト（PSCAR^TM）技術を紹介する．

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極端紫外線リソグラフィー（EUVL）技術は2019年に半導体量産技術として用いられる．この技術開発の現状および課題について解説するとともに，今後の展開についても議論する．特に5 nm nodeではEUVレジスト材料プロセス技術が最重要課題になっている．この内容についても現状および課題解決に向けた取り組みを紹介する．近年，光源のパワーの向上が図られており，2017年には中間集光点で250 Wを実現し，AMSLの本社工場のNXE:3400Bの露光装置でこの光源を用いて300 mmのウェハで1時間に125のスループットを達成した．これにより，ロジックデバイスを対象に量産に適用する機運が高まり，2019年より半導体チップの量産技術として使用される予定となっている．

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強アルカリ水溶液や有機溶媒を現像液として用いず，廃液処理プロセスの簡素化による低コスト化や競争力回復が達成できる環境配慮型極端紫外（EUV）と電子線（EB）リソグラフィ用水・アルコール現像性植物由来レジストの開発が目的である．水・アルコール現像性プロセスに関する研究進捗が報告された.環境配慮型最先端の電子デバイス製造の省エネルギー化や電子材料の技術の差別化に意義ある貢献が期待できる．

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水中における低エネルギー電子の挙動解析は，放射線化学に関する基礎研究や放射線によるDNA損傷の推定の解析等で重要となる．著者らは，これまで低エネルギー2次電子の果たすDNA損傷の役割を解明するため，不確定要素を未だ多く含む放射線物理化学過程の研究を進めてきた．また，これらの研究成果に基づき，DNA内部から電離した2次電子が関与する修復され難いDNA損傷生成過程を新たに理論予測した．本稿は、著者らのこれまでの研究成果について，放射線化学の専門誌で，前・中・後編の3部構成で「放射線物理化学過程に関する最近の進展」と題して解説するものである．後編では，本研究において開発した計算コードを利用し，電子線トラックエンドにより生成される修復され難いDNA損傷の形成メカニズムについて議論した成果を解説する．

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クルックス管は以前から中学校の学校教育現場で電流と電子の流れの教材として広く用いられているが，非常に高い強度のX線を放出する製品が存在する．しかしながらエネルギーは20 keV程度と低いため，一般的なサーベイメーターでは正しく測定することが出来ない．そのため，学校教育現場で負担無く安全に実験を行うための運用上のガイドラインを提供する必要がある．本研究では蛍光ガラス線量計もしくは電離箱により線量の評価を行い，誘導コイルの設定による線量の変化を評価した．また，CZT検出器によりエネルギースペクトルの評価を行った．クルックス管からのX線はパルス状に放出されるため，パイルアップを避けるために計数率を極端に下げる必要がある．また，GMサーベイメータなどでも線減衰係数を求めることで実効エネルギーを評価できた．

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・ローレンスバークレー国立研究所に滞在して　佐伯 誠一（量研）
・2nd International Conference on Ionizing Processes (ICIP2018)参加記　岩松 和宏（University of Notre Dame）
・PULS2018報告(University of Notre Dame　高橋 憲司（金沢大学），吉田 陽一（阪大）

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・参加報告：量子生命科学研究会第2回学術集会　泉 雄大（広大）
・参加報告：第55回アイソトープ・放射線研究発表会　仮屋 深央（阪大）
・放射線化学若手の会夏の学校 開催報告　青木 祐太郎（福井工大）
・第61回放射線化学討論会参加報告（1日目）　河村 俊哉（東邦大）
・第61回放射線化学討論会参加報告（2日目）　仮屋 深央（阪大）
・第61回放射線化学討論会参加報告（3日目）　外川 雄介（大阪市大）

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・第61回放射線化学討論会プログラム　堀邊 英夫（大阪市大）
・放射線化学賞の授賞に係る審査報告書　鷲尾 方一（早大）

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・事務局より：理事会議事録等　（事務局）

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