特集記事（EUV）：　水・アルコール現像性植物由来レジストを用いた環境配慮型極端紫外光と電子線リソグラフィ

抄録

強アルカリ水溶液や有機溶媒を現像液として用いず，廃液処理プロセスの簡素化による低コスト化や競争力回復が達成できる環境配慮型極端紫外（EUV）と電子線（EB）リソグラフィ用水・アルコール現像性植物由来レジストの開発が目的である．水・アルコール現像性プロセスに関する研究進捗が報告された.環境配慮型最先端の電子デバイス製造の省エネルギー化や電子材料の技術の差別化に意義ある貢献が期待できる．