日本表面真空学会学術講演会要旨集
Online ISSN : 2434-8589
2019年日本表面真空学会学術講演会
セッションID: 1Ba03
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10月28日(月)
半導体デバイス製造用プラズマプロセスにおける表面反応機構
*浜口 智志
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抄録

近年半導体デバイスは、微細化の極限に近づいているが、高性能デバイス開発に関するニーズは高まるばかりで、デバイスの三次元化と新材料の導入がたゆまなく進んでいる。このために必要とされるプロセス技術、特に、プラズマプロセス技術にも大きなイノベーションが求められている。本稿では、最新のプロセス技術と、その物理機構を理解するための数値シミュレーション技術について、業界・学会の最新動向を紹介する。

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© 2019 公益社団法人 日本表面真空学会
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