主催: 日本表面真空学会
阪大院工
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近年半導体デバイスは、微細化の極限に近づいているが、高性能デバイス開発に関するニーズは高まるばかりで、デバイスの三次元化と新材料の導入がたゆまなく進んでいる。このために必要とされるプロセス技術、特に、プラズマプロセス技術にも大きなイノベーションが求められている。本稿では、最新のプロセス技術と、その物理機構を理解するための数値シミュレーション技術について、業界・学会の最新動向を紹介する。
表面科学講演大会講演要旨集
表面科学学術講演会要旨集
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