半導体ウェットプロセスの表面科学

抄録

ナノの世界で回路を形成する現代の半導体プロセスは微小な汚染や欠陥との戦いである。そしてプロセスの更なる進化を支えるのはその根底にある科学の理解、徹底した作用の均一化、並びにクリーン化である。本稿では汚染と欠陥を撲滅すべく日々格闘している、半導体ウェットプロセス、すなわち、洗浄とCMPに焦点を当て、表面科学の観点から、その原理と高性能化の実例を解説する。