エキシマ光アシストアニーリングによる溶液プロセスを用いた酸化インジウム薄膜の低温形成とTFTの特性評価

抄録

近年注目されているフレキシブルデバイスにおいては，従来の基板と比べ高温でのアニーリングに耐えられないという問題がある。我々は硝酸インジウムを用いた水系前駆体溶液を作製し，溶液法を用いて酸化インジウム（In₂O₃）TFTの低温化の研究を進めており，そのプロセスの中で熱アニーリングの代わりにエキシマ光を用いることで薄膜の低温形成を試みたので，その結果について報告する．