日本表面真空学会学術講演会要旨集
Online ISSN : 2434-8589
2020年日本表面真空学会学術講演会
セッションID: 3Ba11
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11月21日
Co-sputterによるβ-FeSi2薄膜の組成と光学特性の制御に関する研究
*Zhang Xuanwei舛中 翔馬名村 今日子鈴木 基史
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抄録

本研究は赤外線ヒーターや波長選択赤外源へ応用できる高性能の波長選択フィルターを実現するため、スパッタ膜のFeとSiの組成比とβ-FeSi2薄膜の光学特性との関係を調べた。FeSi2とSiターゲットを同時にスパッタする際に、印加電力を調整することによりSiの添加量を制御して実験を行った。その結果、赤外域で吸収がほぼ0のβ-FeSi2薄膜の作製を成功した。

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© 2020 日本表面真空学会学術講演会
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