主催: 日本表面真空学会
京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻
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本研究は赤外線ヒーターや波長選択赤外源へ応用できる高性能の波長選択フィルターを実現するため、スパッタ膜のFeとSiの組成比とβ-FeSi2薄膜の光学特性との関係を調べた。FeSi2とSiターゲットを同時にスパッタする際に、印加電力を調整することによりSiの添加量を制御して実験を行った。その結果、赤外域で吸収がほぼ0のβ-FeSi2薄膜の作製を成功した。
表面科学講演大会講演要旨集
表面科学学術講演会要旨集
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