主催: 日本表面真空学会
国立研究開発法人 産業技術総合研究所 センシングシステム研究センター
独立行政法人国立高等専門学校機構 久留米工業高等専門学校 材料システム工学科
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本研究の目的は,新たに開発した高密度収束プラズマスパッタリング装置を用いて,液体ガリウム(Ga)ターゲットを高密度プラズマでスパッタリングすることで窒化ガリウム(GaN)膜を成膜し,本装置のGaN成膜特性を明らかにすることである.本研究では,窒素-アルゴン混合ガス中の窒素ガス流量比のGaN薄膜のc軸配向度に及ぼす影響について調べ,窒素100%時に配向度が向上する結果を得たので報告する.
表面科学講演大会講演要旨集
表面科学学術講演会要旨集
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