デュアルカソードバイポーラ大電力パルススパッタ装置におけるプラズマ電位制御

抄録

プラズマ電位上昇によってイオン化したスパッタ粒子にエネルギーを付与するため、パルスOFF期にターゲット電極に正電圧印加が可能なデュアルカソードスパッタ装置を使用し、半周期遅れで交互にバイポーラ大電力パルス駆動を行って、正電圧印加によるプラズマ電位上昇を調査した。パルスOFF期に30 V以上印加することでプラズマ電位上昇が確認でき、正電圧印加によってターゲット電極が陽極として機能することを確認した。