主催: 日本表面真空学会
千葉工業大学工学部
千葉工業大学大学院工学研究科
千葉工業大学工学部 千葉工業大学大学院工学研究科
関東学院大学材料・表面工学研究所
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反応性スパッタリングに斜入射堆積法を適用し，離散的ナノ柱状構造を有するTiN膜の堆積に成功した．作製したTiN膜は，非常に強く(100)面に配向していた．微細構造による光散乱のため，作製膜の光反射率は可視光領域において大きく減少した．
表面科学講演大会講演要旨集
表面科学学術講演会要旨集
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