N⁺イオンビーム照射がPTFEの表面化学状態に及ぼす熱の影響

抄録

PTFEはFとCの強力な結合により安定した電気的特性を持つため，高周波用プリント基板として注目されている。しかし，プリント基板として使用するには配線材を施す必要がありPTFEの付着しづらさが問題となる。本研究ではPTFEに対して低角度N⁺イオンビームを照射し表面改質をおこなった。その際に，貼り付け基板に熱伝導率の異なるガラスとステンレスを用いることで照射熱による表面化学状態への影響を調査した。