反応性RFプラズマ溶射による石英基材上へのAlN皮膜の創製

抄録

熱プラズマの反応性を利用した反応性溶射法により、従来の技術では困難とされてきたアルミニウム窒化物（AlN）皮膜の作製を可能とした。特に石英基材を用いることにより、十分な厚さを持ち、原材料であるAlを含まないAlNのみからなる皮膜の形成を可能とした。