自己復元性を有する生体インタフェース材料の検討

基材表面処理が配線形成に及ぼす影響

抄録

柔軟な生体表面と電子デバイスを電気・機械的に接続するための生体インタフェースに適した新規な材料とそれらにより構成される構造の検討が今後重要となる。本報告では，生体インタフェース材料として有望なシリコーン系高分子エラストマー材上への微細配線構造を想定し，CO2レーザによる高分子基材表面処理が3次元形状に及ぼす影響ならびに，その後基材上に形成した配線導体の接合性への影響を調査した。実験を通して，伸縮変形を受けても配線導体の界面密着性や形状維持の安定化を実現できることを検証した。