高出力・高輝度レーザ溶接におけるキーホール形成機構に関する基礎研究

抄録

本研究では、高輝度・高出力レーザ溶接におけるキーホール形成を、X線透視観察手法により直接観察し、自由表面を数値解析できるMPS(Moving Particle Semi-implicit)法の数値計算結果と比較することで、キーホール形成因子とされる蒸発反跳圧と表面張力とを評価し、キーホール形成機構に必要な基礎知見を明らかにした。