局所パルスガス添加による極低酸素GMA溶接の安定化

抄録

極低酸素雰囲気下のGMA溶接で生じるアークの不安定現象を改善するために、純Arの主シールドガスにパルス状に酸化性ガスを含むガス添加を検討した。主シールドガスに酸化性ガスを混合する場合に比較して、平均濃度でみると、より低濃度の酸化性ガスの添加で良好なビード外観が得られた。