パルスガスMAG溶接法の開発 第5報

―ワイヤ径に応じた溶接条件の検討―

抄録

GMA溶接の低スパッタ化を目的として、CO2を主たるシールドガスとし、少量のArを溶滴の周辺のみに周期的（パルス状）に添加することで規則的な溶滴移行を実現し、ガスコストを抑えつつ低スパッタ化が可能なパルスガスMAG溶接法を開発した。本報では、パルスガスMAG溶接法において電流およびワイヤ径を変化させた際の溶滴挙動について調査し、得られた結果について考察した。