酸素および高濃度水蒸気共存下でのPt/Al2O3触媒による水素酸化反応において，反応ガス中に揮発性低分子シロキサン（デカメチルシクロペンタシロキサン（D5））が存在すると，触媒表面にD5が吸着して水素酸化率が低下した．高い触媒活性を維持するため，反応ガスを各種金属酸化物（除去材），触媒の順で接触させ，触媒を通過した後のガス中の水素濃度経時変化を調べた．その結果，各種除去材がD5を反応ガス中から除去し，触媒の水素酸化率低下を抑制することがわかった．特に，ZrO2, メソ多孔体であるSBA-15やMCM-41は高いD5除去性能を示し，Si–O骨格にZr, Tiを組み込んだZr-SBA-15, Ti-SBA-15は新規な酸点が発現し，SBA-15の除去性能を向上した．Zr-SBA-15をコートしたハニカムのみを用いたD5除去試験において，ハニカムを通過したガス中に未分解のD5とCH4が検出された．ハニカムに流通させたD5と，未分解のD5とCH4でハニカム前後の炭素収支がほぼ100%となり，D5は加水分解して除去されていることを確認した．アレニウスプロットから加水分解反応の次数はD5濃度に対し一次であった．
