フォトレジスト

抄録

社会のデジタル化が進んでいるが，デジタル情報を処理するには電気が必要である。情報が増えるにしたがって，社会が必要とする電力も増大する。これまでも，半導体製造の高集積化（微細化）技術を代表に，半導体デバイスの高性能化が電力の増加を抑制してきたが，カーボンニュートラルを実現するため，さらなる高性能化が要求されている。半導体製造において重要な役割を果たす感光材であるフォトレジストの日本企業のシェアは90 %に達する。本稿では，フォトレジストの理解のために，2章でフォトリソグラフィ，3章でフォトリソグラフィプロセスを解説した後，4章で現在主流の化学増幅型フォトレジストにおいてどのように改良が行われ，何が課題として残ったかを考察し，5章で次世代フォトレジスト開発を展望する。