ボーダーラインソルボリシスにおける生成物の選択性

抄録

1-(3-Nitrophenyl)ethyl Tosylateの50：50(v/v)2,2,2-trifluoroethanol/H₂O (I = 0.5 by NaClO₄)中、25℃のソルボリシスでは、原系トシラート内の¹⁸O-スクランブリング、および、基質のラセミ化が観測される。この基質から生成する炭素陽イオンは非常に不安定であり、その存在について興味がもたれる。そこで、いくつかの置換1-Phenylethyl系の45：5：50(v/v/v)　TFE/Methanol/Water中でのソルボリシス中において、生成物の生成比（[R-OTFE]/[R-OMe]）を決定し、この不安定な炭素陽イオン中間体の存在について議論した。