抄録
ポジ型フォトレジストに含まれるノボラックの内部構造で重要視されているオルト結合体ユニットの効果について, アルカリ現像液に対する溶解挙動から検討を行った. まず, ノボラック中でオルト結合体ユニットを形成すると考えられる低分子化合物 (6P) を合成し, ついで, これを高分子量化して6Pユニットをノボラック中に導入した. その結果, このノボラックからなるレジストは, 従来のレジストに比べ, アルカリ現像液に対する溶解禁止効果 (未露光部) および溶解促進効果 (露光部) が強く発現し, 溶解コントラストが増大した. これにより, レジストのパターンプロファイルが向上し, ノボラック中にオルト結合体ユニットを導入した効果が明確となった. また, ノボラックの高分子成分にオルト結合体ユニットを導入する手段として, この6Pが有用であることがわかった.
