抄録
高分子基板上にネットワークポリチオフェン層を形成するための新たな手法として，二官能性チオフェンモノマーの気相重合を検討した。酸化剤として塩化鉄（III）を表面に塗布したポリノルボルネンを基板として用い，ここに二官能性チオフェンモノマーを水蒸気とともに蒸散させることで供給し，基板上でチオフェンの酸化重合を行った。さらに，同様の手法を用いて二官性チオフェンと単官能性チオフェンの共重合を行うことで生成するネットワークポリマーの架橋密度を制御することができ，単官能性チオフェン単独での気相重合を行った場合と同程度の共役長をもち，なおかつ酸化剤である塩化鉄（III）による酸化的ドーピングを受けたネットワークポリチオフェン層を効率よく形成できることが明らかになった。
