電子材料用新規フェノール系環状化合物の創製

抄録

半導体パターンの微細化はリソグラフィー技術の進歩と共に年々進んでいる。現在，最先端リソグラフィーに用いられる材料には，これまでのppb オーダーでの金属低減・管理のみならず，不純物の低減・管理や微細パターンへの塗膜性，パターン品質が求められている。これに対する一つの解として分子レジストの適用が検討されてきた。本研究では分子レジスト系樹脂として，ナフタレン骨格を用いた新規フェノール系環状化合物（カリックスアレーン）の合成検討を行い，得られた化合物の特性評価において興味深い挙動示すことが観測されたため報告する。