日本化学会誌(化学と工業化学)
Online ISSN : 2185-0925
Print ISSN : 0369-4577
一般論文
酢酸存在下におけるアゾキシベンゼン類の光反応
山本 二郎濱田 龍二坪井 隆
著者情報
ジャーナル フリー

2002 年 2002 巻 3 号 p. 339-343

詳細
抄録
アゾキシベンゼンのベンゼン溶液に酢酸を添加してUV照射すると,ベンゼン中で照射したときよりも高い収率で2-ヒドロキシアゾベンゼンが得られた.同様に2,2′-ジメチルアゾキシベンゼン,3,3′-ジメチルアゾキシベンゼン,4,4′-ジメチルアゾキシベンゼン,2,2′-ジクロロアゾキシベンゼンおよび4,4′-ジクロロアゾキシベンゼンのベンゼン溶液に酢酸を加えUV照射すると,酢酸無添加のときよりも対応する2-ヒドロキシアゾベンゼンが高い収率で得られた.4-メチル-ONN-アゾキシベンゼン(α : β = 3.5 : 1.0) (7α)と4-メチル-NNO-アゾキシベンゼン(α : β = 0.0 : 1.0) (7β)の酢酸を添加したベンゼン溶液をUV照射すると,7αからは主として2-ヒドロキシ-4-メチルアゾベンゼンが,7βからは主に2-ヒドロキシ-4′-メチルアゾベンゼンが生成し,いずれの転位生成物の収率も酢酸を添加したときが高くなった.この反応で7αから7βへの速い位置異性化がみられたが,7βから7αへの異性化は起こらなかった.
著者関連情報

この記事は最新の被引用情報を取得できません。

© 2002 The Chemical Society of Japan
前の記事 次の記事
feedback
Top