三菱住友シリコン(株) 社友
2007 年 76 巻 8 号 p. 906-912
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超LSIの基盤材料としてシリコンウエハーは新しい結晶技術を開発し,それを量産化することで,超LSIのさまざまな要求に対応しながらシリコン半導体産業の進展に貢献してきた.本稿では,CZ単結晶成長技術,エピタキシャル成長技術およびウエハー処理技術について,シリコン結晶技術が大きくかかわる超LSIの課題を整理したのち,シリコン結晶技術の展開の様子と現状を紹介し,さらに将来を展望する.
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