多結晶シリコン薄膜トランジスタの新規作製技術ならびに解析技術

抄録

低温多結晶シリコン薄膜トランジスタは，次世代の情報端末システムオンパネルを実現するための有望な技術である．高性能化を目指して，さまざまな低温結晶化技術が検討されてきた．本稿では，われわれが開発したグリーンレーザーによる結晶化法や金属ナノドットを用いた金属誘起横方向結晶成長法について解説した．また，電気的ストレスに対する信頼性評価技術として，動作中の微弱な発光を活用したホットキャリア解析法やジュール熱劣化を分析する赤外線発熱解析法などの解析技術についても紹介した．