東京工業大学 応用セラミックス研究所
2013 年 82 巻 8 号 p. 698-702
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新しい半導体である酸化物半導体の特徴について,シリコンと比較しながら解説する.まず,薄膜トランジスタ(TFT)の動作原理を説明し,シリコンと酸化物TFTの移動度や欠陥密度の違いを明らかにする.特にアモルファス酸化物TFTの移動度が高いこと,欠陥密度が低いこと,オフ電流が低いことを,強いイオン結合性とそれに伴う電子構造に関連付けて説明する.
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