研究紹介
半導体製造用ナノインプリントシステム
2019 年 88 巻 1 号 p. 31-35
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2019 年 88 巻 1 号 p. 31-35
ナノインプリントリソグラフィ（NIL）は，ナノスケールの微細加工技術として有効な技術であることが示されてきた．本稿では，NANDフラッシュメモリやDRAMなどの先端デバイスへの適用に向け開発している新しいインプリント装置の紹介，技術開発の進捗状況，ほかの先端半導体デバイス量産装置候補よりも魅力的な生産コストで，かつ将来の要求仕様に適したインプリント技術の展望について報告する．
