2020 年 89 巻 4 号 p. 208-212
ウェーハの厚さ100µm以下の薄型Si太陽電池の製造を可能とするため,Rib構造の研究開発を行っている.Rib太陽電池では,機械的強度を保つため強度の強いウェーハの一部を梁(Rib)として残し,それ以外の部分を薄型化する.本稿では,まずRib構造作製のプロセスならびにヘテロ接合太陽電池を作製するための界面パッシベーション技術を紹介する.Rib太陽電池では,Siが厚い部分と薄い部分が面内で分布している.そこで次に,フォトルミネセンス,エレクトロルミネセンスなどを用いて特性分布を評価した結果を紹介する.最後に,本研究開発の将来像を展望する.