プラズマを用いる薄膜形成技術
表面反応のモデル
1983 年 52 巻 8 号 p. 657-666
詳細
1983 年 52 巻 8 号 p. 657-666
グロー放電プラズマは電子系とガス系が著しく非平衡な状態にあり,高エネルギー電子とガス分子の衝突によって実に多様な化学反応が進む.この複雑な系を用いて薄膜を形成する技術は,多方面への応用が試みられているが,膜形成の素過程はどの程度理解されているのであろうか.気相中でどんな反応が起こり,基板上に吸着した化学的活性種はどのようにして固体薄膜のネットワークを組むのであろうか.これまでの研究の流れをたどりつつ,プラズマ・デポジションの特徴と問題点を浮きぽりにしたい.
