応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
電子ビーム励起表面反応プロセス
松井 真二森 克己水戸 政信市橋 鋭也
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1987 年 56 巻 9 号 p. 1190-1195

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抄録

基板に吸着させた分子を,電子ビーム照射により解離し,基板上へのデポジション,基板エッチングを行ないうる電子ビーム励起表面反応プロセスは,ナノ構造形成技術として,きわめて重要である.電子ピーム励起表面反応による直接錨画プ貝セスが可能であることを示し,さらに,オージェその場観察,透過電子顕微鏡その場観察により,電子ビームデポジションの初期成長過程の観察を行なった.

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© 社団法人 応用物理学会
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