北海道大学量子界面エレクトロニクス研究センター
NTT甚礎研究所
1992 年 61 巻 2 号 p. 141-144
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有機金属気相成長法による選択成長を用いた新しい量子細線・量子ドット構造として,ファセット量子細線,ラテラル量子細線および四面体量子ドット構造を作製した.他の方法と比較した利点は,lOnm以下の半導体極微構造が,加工ひずみなしに得られることにある.
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