応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
GaAs MBE成長におけるGa液滴の挙動と成長制御
大坂 次郎井上 直久
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1992 年 61 巻 2 号 p. 163-166

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抄録

MBE法で成長中のGaAs表面上の過剰なGa原子の挙動は成長機構を理解するためにも,また応用上も非常に興味が持たれる.このような成長機構の研究にはその場観察が有効である.
ここでは,まず開発した電子顕微鏡一MBE複合装置と二次電子を用いたGaAs成長表面の成長その場観察法について述べる.次いで,観察により明らかとなったGa液滴の挙動について述べ,その形成機構を考察する.最後に,液滴を制御した新しい単原子層成長法を紹介する.

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© 社団法人 応用物理学会
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