NTT LSI研究所
1992 年 61 巻 2 号 p. 163-166
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MBE法で成長中のGaAs表面上の過剰なGa原子の挙動は成長機構を理解するためにも,また応用上も非常に興味が持たれる.このような成長機構の研究にはその場観察が有効である. ここでは,まず開発した電子顕微鏡一MBE複合装置と二次電子を用いたGaAs成長表面の成長その場観察法について述べる.次いで,観察により明らかとなったGa液滴の挙動について述べ,その形成機構を考察する.最後に,液滴を制御した新しい単原子層成長法を紹介する.
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