X線リソグラフィ技術の現状と将来展望
1995 年 64 巻 11 号 p. 1111-1114
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1995 年 64 巻 11 号 p. 1111-1114
LSIの高集積化のトレンドを維持していくには,微細加工技術,とりわけ,先端リソグラフィ技術の開発が極めて重要となってきた.X線リソグラフィはsub-0.1μmまでの解像度を有するため, 1Gbit～64GbitDRAMのリソグラフィ技術として有力な候補である.本稿では,X線リソグラフィの実用化へ向けての最近の進展を紹介するとともに,残された課題について議論する.また,他の競合リソグラフィと比較しながら,X線リソグラフィの将来展望を述べる.
